Restek的(de)(de)分(fen)子篩5A PLOT柱設計用于有(you)(you)效分(fen)離(li)氬氣/氧(yang)(yang)氣和(he)其他氣體，包括(kuo)一氧(yang)(yang)化(hua)(hua)碳。特(te)殊的(de)(de)涂層和(he)失活(huo)程序可確保(bao)(bao)色(se)譜效率(lv)(lv)和(he)多孔層涂層的(de)(de)完(wan)整性。分(fen)子篩具有(you)(you)非常高的(de)(de)保(bao)(bao)留(liu)率(lv)(lv)，允(yun)許在(zai)高于環(huan)境溫度的(de)(de)溫度下分(fen)離(li)氣體。我們的(de)(de)失活(huo)技(ji)術還允(yun)許一氧(yang)(yang)化(hua)(hua)碳以尖銳(rui)的(de)(de)峰值(zhi)洗脫。此(ci)外，我們獨(du)特(te)的(de)(de)固定化(hua)(hua)工藝確保(bao)(bao)均勻(yun)的(de)(de)顆粒保(bao)(bao)持附著(zhu)在(zai)管道上(shang)——即(ji)使在(zai)連(lian)續的(de)(de)閥門(men)循環(huan)之后也是如(ru)此(ci)。

由(you)于(yu)分子(zi)篩(shai)材料(liao)具有(you)很(hen)強的親水(shui)(shui)性，它(ta)們會(hui)吸附(fu)樣(yang)品或載(zai)氣中的水(shui)(shui)。水(shui)(shui)污染(ran)會(hui)對峰對稱性產生(sheng)不利影響，并會(hui)降低所有(you)化合(he)物的分辨率(lv)。如果發生(sheng)水(shui)(shui)污染(ran)，通(tong)過(guo)在(zai)300°C下(xia)用干載(zai)氣流調(diao)節3小時，重新激(ji)活Restek Msieve 5A PLOT柱。

我(wo)們不建(jian)議重新卷(juan)取PLOT柱，因(yin)為這(zhe)可能會(hui)導致顆粒從管道側面脫(tuo)落。

• 通過氬、氧和一氧化碳的尖銳、對稱的峰值提高精度。
• 在高于環境溫度的條件下，容易分離出氣體。
• Restek PLOT技術減少顆粒釋放，提高流動再現性，減少維護停機時間。
• 溫度范圍：-100至300°C。
• GC柱相位交叉參考也可用。
• 使用我們的Pro EZGC色譜建模器為PLOT柱建模。

產地：美國

薄膜厚(hou)度(du)：50 µm

內徑（ID）：0.53 mm

長度：30 m

溫度限制：-100至300°C

類似相(xiang)：安捷(jie)倫CP分子(zi)篩5A、HP-PLOT分子(zi)篩

Quadrex PLT-5A

Supelco/Millipore Sigma分子篩5A

運輸長度：9英寸

運輸寬度：9英寸

運輸高度：2.5英寸

運(yun)輸(shu)重量：0.65 磅